新技术崛起!SK海力士选择纳米压印技术打破半导体制造瓶颈

【ITBEAR科技资讯】5月17日消息,韩国半导体制造商SK海力士计划在2025年之前采用日本光学设备供应商佳能的纳米压印技术(NIL)来实现大规模生产3D NAND芯片。

SK海力士计划利用日本光学设备企业佳能的纳米压印技术(NIL),到2025年实现3D NAND芯片的量产。

纳米压印技术是一种前沿的微纳米加工技术,具有高分辨率、低成本、高成品率等优点。被认为有望在未来取代传统的光刻技术,成为微电子和材料领域的一种重要加工方法。

据了解,SK海力士最近引进了佳能的纳米压印技术设备,目前正处于测试阶段。目前的测试结果表明,该技术取得了较好的效果。

与传统光刻技术相比,纳米压印技术不需要复杂的光路系统和昂贵的光源,因此可以显著降低制造成本,这是半导体制造商的重要突破。

根据SK海力士最近公布的2023财年第一季度财报,该公司2023财年第一季度的营收为5.0881万亿韩元,较上一季度下降34%,较去年同期下降58%。这是SK海力士连续第三个季度同比和环比下降。今年第2季度(4 ~ 6月)净亏损2.5855万亿韩元。

但是,SK海力士预计,随着销售额的逐渐增加,第一季度的销售额下降到最低点后,第二季度将出现反弹。这也与他们引进纳米压印技术设备以提高生产效率和降低成本的计划相吻合。

纳米压印技术的应用将为SK海力士带来新的发展机遇,并有助于提高其在半导体行业的竞争力。同时也是整个微电子行业的重要技术进步,有望推动行业的创新与发展。

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